热搜话题榜单

价值3.83亿美元！Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机

在近日的财报电话会议上，IntelCEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的HighNAEUV。HighNAEUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，能够显著提升芯片的晶体管密度和性能，是实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。Intel计划在2027年前将HighNAEUV技术用于商业生产，并在2030年前实现代工业务的收支平衡。

包揽全球一半EUV光刻机 台积电A15、Zen4产能大增

作为全球最大的晶圆代工厂，台积电在先进工艺及产能两方面都是NO.1优势，所以不愁订单，仅仅是EUV光刻机就拿下全球50%的份额，随着苹果A15、M1X、M2以及AMD Zen4芯片陆续量产，EUV产能也要爆发了。台积电从7nm开始使用EUV工艺，不过7nm EUV工艺产能较低，只有华为麒麟990大规模使用了，苹果A13还是7nm增强版工艺。从5nm工艺开始，台积电先进工艺全线使用EUV工艺，而且利用程度加深，明年还有3nm工艺，会进一步利用EUV光刻。由于EUV

传三星从比利时获得EUV光刻胶 半导体制造加速摆脱日本

日本对韩国发起的贸易制裁已经过去一个月了，分别是7月4日、8月7日推出了两波禁令，严控重要材料对韩国出口，其中第一波制裁中的光刻胶、氟化聚酰亚胺和氟化氢最为关键，对半导体、面板生产极为重要。

曾狂言华为不可能追上！台积电年底将引进High NA EUV光刻机：25亿元/台

据国外媒体报道称，台积电将于今年年底从荷兰供应商ASML接收首批全球最先进的芯片制造机器，仅比美国竞争对手英特尔晚几个月。高数值孔径极紫外光刻机是世界上最昂贵的芯片制造设备，每台的价格约为3.5亿美元。也是引起了行业专家的吐槽，有人甚至放话，如果没有先进光刻机，你们恐怕什么也不是。

三星美国芯片工厂推迟接收EUV光刻机：项目未找到大客户

快科技10月18日消息，据媒体报道，三星电子已决定推迟接收来自荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）的芯片制造设备。这批设备原本计划用于三星电子在得克萨斯州泰勒市斥资170亿美元新建的工厂。然而，目前三星电子尚未为该工厂赢得任何关键客户，这一现状无疑为项目的推进增添了不确定性。不仅如此，三星电子还推迟了向其他供应商下的订单。这一举动不仅迫使这些供应商开

台积电两年将接收至少60台EUV光刻机：投入超过123亿美元

台积电正全力以赴，加速安装对2nm工艺量产至关重要的EUV光刻机。为了满足这一高端生产需求，台积电计划在今明两年接收超过60台EUV光刻机，预计投资总额将超过123亿美元。业界普遍期待台积电能在今年内接收到最新的High-NAEUV光刻机，这将为其在高端芯片制造领域的竞争力再添助力。

中国台湾花莲县7.3级地震 台积电：EUV光刻机等设备无受损

4月3日7时58分，中国台湾花莲县海域发生7.3级地震，后续记录到上百起余震。4月3日晚，台积电对中国台湾发生的地震所造成影响做出最新评估。有网友表示：越先进的工艺，受影响越大”估计损失可能要好几亿美元了，机台上的晶圆都废了”。

EUV光刻前的最后疯狂：DDR5内存狂飙 单条1TB不是梦

随着制程工艺的进步，DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题，解决办法就是上EUV光刻机，但是设备实在太贵，现在还要榨干DUV工艺最后一滴，DDR5内存有望实现单条1TB。作为第一家推出24Gb核心DDR5的内存公司，美光日前又创造了一个新纪录推出了32Gb核心的DDR5内存颗粒，使用的是比前者1工艺更先进的1工艺，这也是美光最后的非EUV工艺了，再往后不想上EUV也没招了。显存GDDR路线上，2025年会推出GDDR7，频率32Gbps，核心容量16-24Gb，带宽128GB/s以上。

售价直逼30亿 ASML下代EUV光刻机年底问世：1nm工艺必备

在半导体工艺进入7nm节点之后，EUV光刻机是少不了的关键设备，目前只有ASML能制造，单台售价10亿人民币，今年底还会迎来下一代EUV光刻机，价格也会大涨。光刻机的分辨率越高，越有利于制造更小的晶体管分辨率也跟光刻机物镜的NA数值孔径有直接关系，目前的EUV光刻机是NA=0.33技术的，下代EUV光刻机则是提升到NA=0.55。这还不排除未来正式商用的时候价格进一步上涨，毕竟还要好几年才能上市。

摩尔定律不死 Intel将冲击1nm工艺：用上下一代EUV光刻机

作为摩尔定律的提出者，Intel也是最坚定的摩尔定律捍卫者，多次表示半导体工艺还会继续提升下去，在现有4年掌握5代CPU工艺之后，Intel还启动了未来两代的CPU工艺研发，目标逼近1nm了。Intel的5代CPU工艺分别是Intel7、Intel4、Intel3、Intel20A及Intel18A，其中Intel7在2021年的12代酷睿上首发了，Intel4会在下半年的14代酷睿上首发会首次用上EUV光刻工艺。不过下代EUV光刻机的成本也会大涨，当前售价在1.5亿美元左右，下代价格轻松超过4亿美元。

Intel 4/3/20A/18A四种新工艺都来了！EUV光刻机里程碑

Intel在先进制造工艺上投入颇深，按照官方说法进展也颇为顺利。Intel7已经大量用于消费级的12/13代酷睿、企业级的4代可扩展至强。Intel20A、Intel18A均已经完成了测试芯片的流片，它们将引入RibbonFET环绕栅极晶体管、PowerVia后端供电两大关键新技术。

台积电3nm来战 Intel 4工艺来了：首台EUV光刻机已开机

Intel目前的12代、13代酷睿使用的还是Intel7工艺，明年的14代酷睿MeteorLake将首发Intel4工艺，这也是Intel首次使用EUV光刻的工艺，SRAM晶体管规模几乎接近台积电3nm工艺。日前Intel宣布了一个重要里程碑，首台EUV光刻机已经开机并产生13.5nm波长的光。坏消息是14代酷睿可能只有移动版，桌面版处理器在2023年会是RaptorLake-SRefresh，也就是13代酷睿马甲。

台积电的“金字招牌”5nm/7nm不灵了！EUV光刻被迫停机

下半年以来的半导体行业调整，似乎并没有给台积电造成比较大的影响，其1~11月的累计收入同比增加了44.6%。DT分析师预计，因为明年上半年需求订单萎缩，一季度台积电的收入将遭遇10~15%的环比下滑。台积电三季度财报显示，5nm连同7nm是公司前两大销售业务来源，合计贡献了超过50%的营收。

华为公布有关EUV光刻技术的新专利

在集成电路制造中，光刻覆盖了微纳图形的转移、加工和形成环节，决定着集成电路晶圆上电路的特征尺寸和芯片内晶体管的数量，是集成电路制造的关键技术之一。随着半导体工艺向7nm及以下节点的推进，极紫外光刻成为首选的光刻技术。该专利申请提供一种反射镜、光刻装置及其控制方法，涉及光学领域，能够解决相干光因形成固定的干涉图样无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装置基础上进行了优化，进达到匀光的目的，进解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样无法匀光的问题。

ASML发布Q3财报 EUV光刻机狂卖268亿元

荷兰ASML公司今天发布了Q3季度财报，净营收同比增长10%至58亿欧元，超出此前预期的53.9亿欧元；净利润17.01亿欧元，同比下降了2.24%，但表现也超出了预期的14.2亿欧元...根据ASML的数据，Q3季度中该公司出货了12台EUV光刻机，与上一年度持平，不过他们在本季度依然获得了89亿欧元的新订单，其中EUV光刻机就占了38亿欧元，折合人民币268亿元......

价值10亿一台 消息称Intel已有12台EUV光刻机：14代酷睿首发4nm EUV工艺

EUV光刻机是目前半导体生产中最先进也是最复杂的装备，售价约合10亿一台，只有荷兰ASML公司能够生产，虽然客户也只有Intel、台积电、三星这三家，但现在还是供不应求，去年生产了55台，预计2025年产能提升到每年90台...虽然10-12台EUV光刻机听着不多，但是实际的产能不小，EUV光刻机每小时处理的晶圆数在160-220个左右，平均200个来算，一年中24小时不停生产就有170万晶圆，足够生产数千万芯片，10台以上的总量足够Intel生产未来的处理器了......

一台几十亿！台积电、Intel、三星疯抢ASML EUV光刻机

台积电今日（6月17日）在北美技术论坛上公布了新的制程路线图，定于2025年量产2nm工艺，其采用Nanosheet（纳米片电晶体）的微观结构，取代FinFET...台积电还雄心勃勃地提出，要在2025年前将成熟和专业化制程的产能提高50%，包括兴建更多的晶圆厂...台积电表示，计划在2024年引入ASML的新一代EUV极紫外光刻机...这款光刻机价值高达4亿美元（约合26亿元人民币），双层巴士大、重超200吨......

台积电：将于2024年引进下一代ASML High-NA EUV光刻机

据路透社报道，台积电研发资深副总经理Y.J. Mii在台积电技术论坛上表示，公司将在 2024 年引进ASML高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）光刻机...台积电研发高级副总裁Y.J. Mii在台积电硅谷技术研讨会上表示：「展望未来，台积电将在 2024 年引入 High-NA EUV光刻机，以开发客户所需的相关基础设施和图案化解决方案，并推动创新......

三星掌门人拜访荷兰首相，商请协调EUV光刻机供货问题

中关村在线消息：有媒体报道三星掌门人李在镕与荷兰首相马克・吕特进行了会晤，除了讨论半导体行业、供应链相关问题之外，还提到希望首相能帮助协调ASML提供EUV光刻机供货问题...ASML的CEO Peter Wennink表示，ASML交付的每一台光刻机都是按照客户需求个性化定制、手工打造的，直到出货为止需要大量时间的调校、打磨，至少在未来几年之内ASML都无法顺利交付所有订单，除非将产能提升50%以上...

三星李在镕本周有望到访阿斯麦：抢购EUV光刻机

据外媒消息，三星电子副会长李在镕有望在本周到访荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML），媒体认为他此行是为了抢购EUV光刻机。据悉，李在镕的荷兰商务旅行将从6月7日开始，一直持续到6月18日。三星此前宣布将在5年内向半导体和生物制药领域投资3600亿美元（约合23977亿元人民币），将尽早进口EUV光刻机，使三星在制造最先进的微芯片方面占据优势。据媒体报道，三星对其芯片代工业务的高层进行了人员调整，显示业务部门37岁以下的员工，可以申请调整到芯片封装业务部门，此次部门调整也是为了加强自身芯片制造实力。此外，三星李在镕与Intel CEO