ASML拒绝新一代EUV光刻机跳票:找到日本巨头技术驰援
日前传出ASML新一代光刻机EXE:5000跳票到2025年之后的消息,但似乎荷兰人已经找到帮手帮自己提速。日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子(东京威力科创,Tokyo Electron)宣布,将在镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制,确保2023年投入运行。据悉,参与该EUV光刻机研发的还有IMEC,即位于比利时的欧洲微电子中心。东京电子表示,自旋金属抗蚀剂已显示出高分辨率和高蚀刻电阻,并有望使图案更加