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三星已经部署极紫外光刻技术生产存储芯片

3月26日据oltnews援引日经新闻报道，三星电子本周三宣布，已经在首尔华盛市的一家DRAM工厂的一条生产线上部署了极紫外光刻技术(EUV)，将精密内存芯片制造的生产率提高一倍。三星是第一个将这项技术用于大规模生产存储芯片的公司，这是 20 年来生产技术的首次重新设计。三星的竞争对手SK海力士计划2021年在DRAM生产线上安装EUV设备。

台积电预计极紫外光刻机累计采购量在明年将超过50台

9月28日消息，据国外媒体报道，在8月份的全球技术论坛期间，台积电曾透露全球目前在运行的极紫外光刻机中，他们约有一半，产能则是预计占全球的60%。台积电是从第二代的7nm工艺开始采用极紫外光刻机的，7nm之后的工艺，就将全部极紫外光刻机，随着5nm工艺的大规模投产，他们对极紫外光刻机的需求也越来越大。而消息人士透露，台积电正在加快研发极紫外光刻机工艺，他们预计到明年年底，极紫外光刻机的累计采购量将达到

台媒：台积电增购2台极紫外光设备 加快投入2纳米研发

台积电宣告3纳米制程预计明年上半年试产、2022年下半年量产后，也加速2纳米研发脚步，近期增购二台极紫外光（EUV）机台，以投入2纳米研发。台积电台媒称，这使得台积电今年资本支出几乎不会向下修正，预计仍会上看160亿美元。台积电是目前最积极导入极紫外光微影设备提供代工量产服务的晶圆厂，也因台积电在鳍式场效电晶体（FinFET）技术工艺精进，台积电在5纳米全数导入极紫外光微影设备

中国芯片制造迈出一大步！中科院造出最强紫外超分辨光刻机

我国在芯片制造领域取得新突破!经过近七年艰苦攻关，“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着，现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即 22 纳米@ 365 纳米)超分辨光刻装备”。

UVLED紫外线消毒，SUNUV掀起“绿色消毒”技术革命

近年来，随着产品功率提升与技术精进，UVLED的应用逐渐被人们重视。面对强大的潜在市场需求，全球领导厂商之一的LG Innotek特此主办了UVLED论坛，于5月29 日下午在深圳前海JW万豪酒店圆满结束。 论坛以“UVLED 开启Clean Future”为主题， LG Innotek总裁朴钟硕、LG Innotek LED事业部宋准伍博士、台湾国立交通大学洪瑞华教授、首尔大学姜东贤教授，以及在UVLED领域有成功商业实践的SUNUV总经理欧阳晨义，等相关人员都参加了会议。

英唐智控：收购日本芯片半导体光刻机先锋微技术已获日本政府批准

8月24日消息，英唐智控公在互动平台表示，先锋微技术自有的生产设备中包含有日本产的光刻机设备，其收购事项已经获得日本政府批准。先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造，在满足其自身生产研发需要的前提下，不排除向具备条件的其他客户提供产能支持，但公司目前尚未启动该类型的合作。另一方面，投资者问询该光刻机项目是否会与华为合作，英唐智控回应道：先锋微技术光刻机主要用于模拟芯片的制造，在满足其自身?

三星宣布7nm LPP量产！基于EUV光刻技术、性能增加20%

10月18日早间消息，三星官方宣布，已经开始进行7nm LPP（Low Power Plus）工艺芯片的量产工作。

加密货币交易生态 | 2019年将呈现两极分化，如何用技术手段规避老鼠仓？

2019 年随着主力军的入场，以及技术面、政策面和应用层的进一步落地，我们觉得单笔融资金额会继续下降，但整体融资形势会继续上升，会出现两极分化。前两年属于整个大行情的风口，很多项目是一人得道，鸡犬升天，而现在随着行情的下行，裸泳者开始出现。接下来，我们可以看到市场上依然会有比较大的融资事件出现。

三星获“DuoPixel”商标：S7或配双光电二极管技术

根据美国商标和专利局最新公布的清单，三星于11月27日获得了名为“DuoPixel”的设备或服务商标，在即将发布的GalaxyS7可能会扮演非常重要的角色。目前很难明确“DuoPixel”的意思，但在上个月我们曾报道三星正为GalaxyS7测试全新的1200万像素1/2英寸相机传感器，而该传感器的像素尺寸要远大于现有主流智能手机相机尺寸，并将充分利用双光电二极管技术。